全封闭显影机

简要描述：全封闭显影机主要用于半导体制造中晶片的显影工艺，性价比高，稳定性好，重复性好，对显影作业有非常理想的效果。设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业。

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　　全封闭显影机优势

　　·全封闭式显影，避免雾气扩散到外部，污染环境。

　　·外壳喷塑，耐腐蚀，易清洗。

　　·内腔镀特氟龙，光滑，耐腐蚀，易清洗。

　　·内置真空过滤器，防止液体吸入真空泵。

　　·真空压力可调，压力值实时显示。

　　·液体流量可调，回吸可调。
全封闭显影机

　　全封闭显影机参数

　　支持wafer尺寸：碎片至200mm(8"圆晶)

　　·转速分辨率：±1 RPM

　　·旋涂速度：20-3000rpm(空载)

　　·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec(空载)

　　·工艺时间设定： 0-3,000sec/step，时间设置精度： 0.1sec

　　·该机型适用于标准3路显影机(1路洗衣液，1路纯水，1路氮气)

　　·单步工艺及多步工艺可选，内置100组可编辑程序

　　·可根据客户需求定制四管路显影机或更大基片的显影机。

　　设备配有一路显影和一路水、一路气吹功能，并且喷嘴位置可程控移动，实现自动显影和清洗作业。