实验室真空镀膜设备采用封闭的系统框架，外观漂亮，使用安全。4～12组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、
OLED显示研究与开发领域。
主要特点/优势：
★ 封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全；是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品；
★ 前开门真空腔体，方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护；
★ 1200L/s分子泵作为主抽泵，真空极限高达8×10-5Pa(6×10-7Torr)；另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵，真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr)；
★ 4～12组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计，源间有防止交叉污染隔板；
★ 专业真空蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可以预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能；
★ 最大140mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃25片/球形样品架，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～25rpm连续可调；
★ 衬底可选择加热或水冷，源基距最大350mm；
★ 更优的薄膜均匀性和重复性，采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；
★ 可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；
★ 设备集成度高，结构紧凑，占地面积小(1.28平米)；设备配脚轮，方便移动和定位。
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